一、機械拋光：

機械拋光分為粗拋光和細拋光。在粗拋光的進程中，要適當的撒上較粗的氧化鉻、氧化鋁或氧化鎂拋光液，并堅持拋光盤上呢絨的濕潤。在粗拋光進程中要拿緊試樣，沿拋光盤的徑向往復運動，均勻地調整所施加的壓力，留心其壓力也不該過大。拋光開始時，要不時的撒些拋光液。以后漸漸減輕壓力，減低拋光液的濃度直至拋光到細磨痕消失，平坦光亮且沒有黑點時為止。粗拋光的試樣經水洗凈后再進行細拋光，通過細拋光以求清去粗拋光所留下的磨痕，使磨面光亮平坦。細拋光所用的拋光機與粗拋光所用的設備基本相同。

二、點解拋光：

工件上脫離的金屬離子與拋光液中的磷酸形成一層磷酸鹽膜吸附在工件外表，這種黏膜在凸起處較薄，凹處較厚，因凸起處電流密度高而溶解快，隨黏膜流動，凹凸不斷改變，粗糙外表逐漸被整平的進程。

三、化學拋光：

化學拋光是讓資料在化學介質表微觀凸出的部分較凹部分優先溶解，然后平滑面。這種辦法的主要長處是不需雜亂設備，能夠拋光形狀雜亂的工件，能夠同時拋光許多工件，速率還不錯?；瘜W拋光的核心問題是拋光液的配制。